PRODUCT CENTER

- 品质 · 好货 -

首页 >> 产品中心 >>光学清洗机 >> 光学清洗机
详细说明

光学清洗机

收藏
  • 光学镜片超声波清洗机

详情_01.jpg

一、工作原理

光学清洗机主要利用超声波或等离子体技术实现高效清洗:

  • 超声波清洗机:通过超声波发生器产生高频振荡信号,经换能器转换为高频机械振动并传播至清洗液中。超声波在液体中产生微小气泡,气泡在负压区形成、正压区闭合时形成高压冲击波,连续冲击工件表面,使污垢迅速剥落。

  • 等离子体清洗机:通过高压或射频电场将气体激发为等离子体,其中包含的离子、电子、自由基等活性粒子与光学元件表面污染物发生物理和化学反应。离子轰击剥离污染物,自由基分解有机物为无害气体,实现高效清洗。

二、分类与特点

  1. 超声波光学清洗机

    • 特点:清洗速度快、效率高,对工件表面无损伤;可清洗深孔、细缝和隐蔽处;节省溶剂、热能、场地和人工;清洗精度高,能强力清除微小污渍。

    • 优势:适用于光学元件镀膜前后及装配前的工序间清洗,可配置循环过滤、自动恒温、抛动系统,采用环保水溶剂和纯水漂洗,实现高效、环保的清洗过程。

  2. 等离子体光学清洗机

    • 特点:清洗效率高(部分设备可达99.9%),可实现全方位无死角清洗,深入微细孔洞和缝隙;清洗过程中不损伤元件表面,不改变光学性能和化学性质;无需化学溶剂,避免环境污染,节能效果显著。

    • 优势:适用于对清洁度要求极高的光学元件,如半导体光刻掩模板、高精度光学透镜等。

s.jpg


技术支持: 万象网络科技 | 管理登录
×
seo seo